AI요약

반도체 미세 패턴 형성에 필요한 포토리소그래피 기술은 기존 레지스트의 해상도 및 안정성 문제에 직면해 있습니다. 본 기술은 파릴렌 유도체 기반의 신규 고분자를 통해 이러한 한계를 극복합니다. 해당 고분자를 이용한 포토레지스트 층은 노광을 통해 효율적으로 양성 또는 음성 패턴을 형성할 수 있습니다. 특히, 화학 기상 증착(CVD) 방식으로 박막을 형성하여 나노 수준의 정밀한 패턴 구현이 가능하며, 반도체, 디스플레이 등 다양한 분야에 적용될 수 있는 혁신적인 솔루션을 제공합니다.