AI요약

반도체 고종횡비 컨택홀 식각 공정에서 발생하는 식각 중단(etch stop) 현상과 식각률 감소는 3D V-NAND 등 차세대 반도체 제조의 핵심 난제입니다. 본 기술은 이러한 문제점을 해결하기 위한 혁신적인 적응형 펄스 공정 장치 및 방법을 제시합니다. 식각 공정 중 발생하는 부산물의 특정 광신호를 감지하여, 듀티 사이클, 온오프 주기, 펄스 주파수 등 핵심 제어변수를 실시간으로 정밀하게 조절합니다. 이를 통해 식각 효율을 극대화하고 식각 중단 현상을 방지하며, 공정 생산성을 획기적으로 향상시킵니다. 고종횡비 컨택홀 식각의 기술적 한계를 극복하여 반도체 산업의 경쟁력 강화에 기여할 수 있습니다. 관련 프로그램을 담은 기록매체도 포함하고 있습니다.